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          行業知識
          蒸鍍工藝條件對蒸鍍型機用纏繞膜性能的影響
          編輯:臨朐縣益泰興塑料制品加工廠   發布時間:2020-10-27

            不論采用物理蒸鍍或者化學蒸鍍,蒸鍍工藝條件都可能對蒸鍍型氧化硅隔斷性機用纏繞膜的性能產生顯明的影響,因此應當盡可能采用利于增進蒸鍍纏繞膜隔斷性的工藝條件。例如:

            1、采用物理蒸鍍時,真空度的高低、基材纏繞膜的溫度、電子槍的功率、蒸鍍原料 SiO的形狀、真空室中氧氣導人的速度、蒸鍍涂層的厚度(決定于蒸鍍時間與蒸發功率)等均會影響終端產品的性能∶

            蒸鍍時真空度越高,越利于 SiO的蒸發,制得的蒸鍍膜的質量越高;

            蒸鍍時塑料基膜的溫度高,利于蒸發的SiOx在塑料基膜上沉積、形成致密的涂層并利于增進蒸鍍層與塑料基膜間的黏結強度,因此適當增進塑料基膜的溫度,利于增進蒸鍍機用纏繞膜的質量;采用電子槍轟擊、蒸發SiO時,宜使用塊狀的SiO,因為粉狀的SiO在受電子槍轟擊時,易產生粉末濺射現象,影響蒸鍍膜的質量;而粉狀 SiO則利于電阻加熱蒸發;

            氧氣的導入速度,影響蒸鍍層的組成,即SiOx 中Si原子數與O原子數的比值,氧的量越大,即x 的值越大,蒸鍍層向透明性增進的方向移動,但隔斷性有降低的趨勢,當x等于2時,得到隔斷性能差的、無色透明的蒸鍍層,通常x控制在1.5~1.8 之間以獲得兼具高隔斷性及良好透明性的蒸鍍氧化硅纏繞膜。

            蒸鍍層的厚度增加,蒸鍍膜的隔斷性增加,但當蒸鍍層的厚度大于500埃時,蒸鍍層的厚度再進一步增加,蒸鍍膜的隔斷性基本保持不變,因此不能指望依靠降低生產線的線速度(增加蒸鍍時間)、增加蒸鍍層的厚度的辦法,沒限度地增進蒸鍍機用纏繞膜的隔斷性。

            2、高頻電磁波或是微波頻率在化學蒸鍍中的選擇,應當和離子化氣氛之中的離子化能量與蒸鍵材料離子化所需的能量相配,高頻電磁波通常選用13.56MHz,微波通常選用2.45 MHz,真空度在10-2Pa左右便可獲得優良的蒸鍍效果,而物理蒸鍍之時則需要更高的真空度,即102-10?Pa或者更高的真空度。

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